Allgemeine Informationen
TechniStrip® MLO 07 ist ein hocheffizienter Positiv- als auch Negativ-Fotolack-Remover für IR-, III/V-, MEMS-, TSV-Masken, Lötstoß- und Festplatten-Stripping-Anwendungen. Dieser Remover zeichnet sich durch eine hohe Materialverträglichkeit an Cu, Al, Sn/Ag, Aluminuimoxid und organischen Substraten aus.
Hauptmerkmale:
- Sehr hohe Strippingrate (>10µm/min)
- Komplette Wassermischbarkeit
- kompatibel mit allen gängigen Substratmaterialien
- TMAH & Fluorid und Hydroxylamin frei
Technisches Datenblatt:
Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> TechniStrip® Micro D2 (SPEC)
> TechniStrip® Micro D2 (TDS)
> Fotolack entfernen
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