STRIPPER: TechniStrip MLO 07

Allgemeine Informationen

TechniStrip® MLO 07 ist ein hocheffizienter Positiv- als auch Negativ-Fotolack-Remover für IR-, III/V-, MEMS-, TSV-Masken, Lötstoß- und Festplatten-Stripping-Anwendungen. Dieser Remover zeichnet sich durch eine hohe Materialverträglichkeit an Cu, Al, Sn/Ag, Aluminuimoxid und organischen Substraten aus.

Hauptmerkmale:
  • Sehr hohe Strippingrate (>10µm/min)
  • Komplette Wassermischbarkeit
  • kompatibel mit allen gängigen Substratmaterialien
  • TMAH & Fluorid und Hydroxylamin frei
Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> TechniStrip® Micro D2 (SPEC)
> TechniStrip® Micro D2 (TDS)
> Fotolack entfernen

Wenn Sie Interesse an weiter führenden technischen Informationen, einem Angebot oder einem kostenlosen Muster haben, bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren.

> sales@microchemcials.com

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