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Si + SiO2 Wafer

Prime Si + dry/wet/dry SiO2 wafer 4 inch, thickness = 525 ± 25 µm, (100), 1-side polished, n-type (Phosphor), TTV < 10 µm, 1 - 10 Ohm cm, 2280 nm SiO2 +/- 5 %

Si + SiO2 Wafer

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Spezifikationen:

Artikel-Nr.: WWD40525250P1314SXX2
Quality: Prime
Material: Si + wet SiO2
Wafer thickness: 525 µm
Dopand: Phosphor
Orientation: (100)
Resistivity: 1 - 10 Ohm cm
Wafer thickness tolerance: +/- 25 µm
Surface: 1-side polished (ssp)
Diameter: 4 inch (100 mm)
Coating thickness: 2280
Prime Si + dry/wet/dry SiO2 wafer 4 inch, thickness = 525 ± 25 µm,... mehr

Produktinformationen "Si + SiO2 Wafer"

Prime Si + dry/wet/dry SiO2 wafer 4 inch, thickness = 525 ± 25 µm, (100), 1-side polished, n-type (Phosphor), TTV < 10 µm, 1 - 10 Ohm cm, 2280 nm SiO2 +/- 5 %

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