Allgemeine Informationen
Der AZ® nLOF 5510 ist ein dünner, hochauflösender thermisch stabiler Negativlack optimiert für Single-layer Lift-off Prozesse sowie als Lackmaske für RIE oder die Ionenimplantation.
Entwickler
Wir empfehlen die TMAH-basierten Entwickler AZ® 326 MIF Developer, AZ® 726 MIF Developer oder AZ® 826 MIF Developer.
Technisches Datenblatt:
Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ® nLOF 5510
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