FOTOLACK: AZ® nLOF 5510

Allgemeine Informationen

Der AZ® nLOF 5510 ist ein dünner, hochauflösender thermisch stabiler Negativlack optimiert für Single-layer Lift-off Prozesse sowie als Lackmaske für RIE oder die Ionenimplantation.

Entwickler

Wir empfehlen die TMAH-basierten Entwickler AZ® 326 MIF Developer, AZ® 726 MIF Developer oder AZ® 826 MIF Developer.

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ® nLOF 5510

Wenn Sie Interesse an weiter führenden technischen Informationen, einem Angebot oder einem kostenlosen Muster haben, bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren.

> sales@microchemcials.com

Bitte geben Sie die Zeichenfolge in das nachfolgende Textfeld ein

Die mit einem * markierten Felder sind Pflichtfelder.