Wir bieten zwei Varianten des AZ® MIR 701 Photoresist (AZ® MIR 701 14 CPS und AZ® MIR 701 29 CPS) an.
Hier die Parameter im direkten Vergleich:
AZ® MIR 701 14CPS
Schichtdicke: 900 nm bei 4.000 U/min
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
AZ® MIR 701 29CPS
Schichtdicke: 1.6 µm bei 4.000 U/min
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
Allgemeine Informationen
AZ® MIR 701 ist als thermischstabiler, hoch auflösender Positivlack vor allem für trockenchemisches Ätzen feiner bis sehr feiner Strukturen optimiert. Der Fotolack kann problemlos weiter verdünnt werden, um z. B. in Anwendungen der Laserinterferenz-Lithographie noch bessere Auflösungen zu erzielen.
Entwickler
AZ® 351 B 1 : 4 oder AZ® 726 MIF empfohlen;
AZ® 400 K 1 : 4 oder AZ® 326 MIF möglich
Technisches Datenblatt:
Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ MIR 701 (TDS)
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