FOTOLACK: AZ® MIR 701 (14 und 29 CPS)

Wir bieten zwei Varianten des AZ® MIR 701 Photoresist (AZ® MIR 701 14 CPS und AZ® MIR 701 29 CPS) an.
Hier die Parameter im direkten Vergleich:

AZ® MIR 701 14CPS

Schichtdicke: 900 nm bei 4.000 U/min
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch

AZ® MIR 701 29CPS

Schichtdicke: 1.6 µm bei 4.000 U/min
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch

Allgemeine Informationen

AZ® MIR 701 ist als thermischstabiler, hoch auflösender Positivlack vor allem für trockenchemisches Ätzen feiner bis sehr feiner Strukturen optimiert. Der Fotolack kann problemlos weiter verdünnt werden, um z. B. in Anwendungen der Laserinterferenz-Lithographie noch bessere Auflösungen zu erzielen.

Entwickler

AZ® 351 B 1 : 4 oder AZ® 726 MIF empfohlen;
AZ® 400 K 1 : 4 oder AZ® 326 MIF möglich

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ MIR 701 (TDS)

Wenn Sie Interesse an weiter führenden technischen Informationen, einem Angebot oder einem kostenlosen Muster haben, bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren.

> sales@microchemcials.com

Bitte geben Sie die Zeichenfolge in das nachfolgende Textfeld ein

Die mit einem * markierten Felder sind Pflichtfelder.