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Chemisch verstärkter Positiv-Dicklack mit sehr hoher Photospeed und großem Aspektverhältnis, durch seine Stabilität geeignet z. B. als Lackmaske für die galvanische Abscheidung oder RIE Prozesse. Auch bei hohen Schichtdicken benötigt der AZ® 12XT vergleichsweise kurze Softbakezeiten, keine Rehydrierung vor der Belichtung, und dank seiner chemischen Verstärkung nur geringe Lichtdosen bei gleichzeitig hoher Entwicklungsrate.
Der AZ® MIR 701 29CPS ist die dickere Version des AZ® MIR 701 14 CPS für 2 - 3 µm Lackschichtdicke. Dank seiner hohen thermischen Stabilität als Lackmaske für hochauflösende Trockenätzprozesse eine geeignete Alternative für die eingestellte AZ® 6600 Lackserie.
Der Positivlack AZ TFP 650 F5 mit überragendem Photospeed und exzellentem Kontrast bei gleichzeitig sehr guter Lackhaftug auch unter anspruchsvollen Ätzbedingungen.
Der Positivlack AZ TFP 650 F5 mit überragendem Photospeed und exzellentem Kontrast bei gleichzeitig sehr guter Lackhaftug auch unter anspruchsvollen Ätzbedingungen.