Dünnere Version des AZ® 15nXT (450 cPs). Ein Negativlack für ca. 3 - 5 µm Lackschichtdicke für Anwendungen wie die galvanische Abscheidung oder Ätzprozesse welche eine exzellente Lackhaftung und steile Lackflanken erfordern. AZ® 15nXT ist kompatibel zu Cu-Substraten und anderen Metallen sowie TMAH-basierten Entwicklern.
Der AZ 5209 E ist die dünnere Version des AZ® 5214 E. Ein speziell für hochauflösende Lift-off Anwendungen optimierter Umkehrlack, gekennzeichnet durch eine verbesserte Lackhaftung und thermische Stabilität.
Dünner, hochauflösender thermisch stabiler Negativlack optimiert für Single-layer Lift-off Prozesse sowie als Lackmaske für RIE oder die Ionenimplantation. Kompatibel mit TMAH-basierten Entwicklern.
Der AZ® MIR 701 29CPS ist die dickere Version des AZ® MIR 701 14 CPS für 2 - 3 µm Lackschichtdicke. Dank seiner hohen thermischen Stabilität als Lackmaske für hochauflösende Trockenätzprozesse eine geeignete Alternative für die eingestellte AZ® 6600 Lackserie.
TechniEtch™SO102 ist eine Tetraethylorothosilicate (TEOS) Ätzlösung mit speziellen Additiven für eine exzellente Benetzung und Ätzratenkontrolle.
TechniEtch™TC ist eine Titanätzlösung, die Hauptbestandteile sind hierbei Salpeter- und Fluorwasserstoffsäure. Die Ätzrate ist abhängig von dem Abscheidungsverfahren des Titans und der dadurch hervorgerufenen Kristallstruktur.
Eine Serie an Positiv-Dicklacken, aufgrund ihre verringerte Fotoinitiator-Konzentration im Lackschichtdickenbereich von ca. 3 - 30 µm prozessierbar. Durch eine verbesserte Haftung auf allen üblichen Substratmaterialien vor allem geeignet für nasschemische Prozesse wie Ätzen oder die galvanische Abscheidung.