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Der AZ 5209 E ist die dünnere Version des AZ® 5214 E. Ein speziell für hochauflösende Lift-off Anwendungen optimierter Umkehrlack, gekennzeichnet durch eine verbesserte Lackhaftung und thermische Stabilität.
Dünner, hochauflösender thermisch stabiler Negativlack optimiert für Single-layer Lift-off Prozesse sowie als Lackmaske für RIE oder die Ionenimplantation. Kompatibel mit TMAH-basierten Entwicklern.
Der AZ® MIR 701 29CPS ist die dickere Version des AZ® MIR 701 14 CPS für 2 - 3 µm Lackschichtdicke. Dank seiner hohen thermischen Stabilität als Lackmaske für hochauflösende Trockenätzprozesse eine geeignete Alternative für die eingestellte AZ® 6600 Lackserie.
Der Positivlack AZ TFP 650 F5 mit überragendem Photospeed und exzellentem Kontrast bei gleichzeitig sehr guter Lackhaftug auch unter anspruchsvollen Ätzbedingungen.
Remover für post etch residue (PER) removal. Äußerst effizient beim selektiven Entfernen organo-metallischer Oxide von Al, Cu, Ti, TiN, W und Ni.
Eine Serie an Positiv-Dicklacken, aufgrund ihre verringerte Fotoinitiator-Konzentration im Lackschichtdickenbereich von ca. 3 - 30 µm prozessierbar. Durch eine verbesserte Haftung auf allen üblichen Substratmaterialien vor allem geeignet für nasschemische Prozesse wie Ätzen oder die galvanische Abscheidung.
Der Positivlack AZ TFP 650 F5 mit überragendem Photospeed und exzellentem Kontrast bei gleichzeitig sehr guter Lackhaftug auch unter anspruchsvollen Ätzbedingungen.
TechniEtch™TC ist eine Titanätzlösung, die Hauptbestandteile sind hierbei Salpeter- und Fluorwasserstoffsäure. Die Ätzrate ist abhängig von dem Abscheidungsverfahren des Titans und der dadurch hervorgerufenen Kristallstruktur.
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